報告書番号

T95017

タイトル（和文）

ＲＦ共鳴法によるプラズマ制御とその応用

タイトル（英文）

PLASMA CONTROL BY RF RESONANT ELECTRIC FIELDAND APPLICATIONS

概要 （図表や脚注は「報告書全文」に掲載しております）

ＲＦ共鳴法によるプラズマ制御方法の特長を調査し，この技術の電気事業への応用が可能な分野について評価した。この方法では，プラズマ中に電界が浸透することにより，イオンを迅速に回収できることが示されている。しかし，その特性等については十分に理解されていないため，新しい技術として期待される。プラズマ内部のイオンを制御することが可能となれば，プラズマＣＶＤやエッチングなど電気事業に関わるプラズマ技術への応用に利用できる。

概要 （英文）

THIS PAPER DESCRIBES THE PHENOMENA AND APPLICATIONS OF A NEW METHOD OF PLASMA CONTROL USING A RADIO-FREQUENCY(RF) RESONANT ELECTRIC FIELD. THE RF RESONANT FIELD PRODUCES VERY DIFFERENT PHENOMENA FROM ORDINARY RF PLASMAS BECAUSE THE ELECTRIC FIELD IS ENHANCED IN THE PLASMA AND EXCITES THE EIGEN-MODE OF THE PLASMA WAVE. ALTHOUGHTHE MECHANISM OF THE RF RESONANT ELECTRIC FIELD HAS NOT BEEN EXPLAINEDIN DETAIL YET,ESPECIALLY THE BEHAVIOR OF ELECTRONS AND IONS,IT IS EXPECTED TO IMPROVE THE ION EXTRACTION EFFICIENCY OF AVLIS BY ENHANCING THEELECTRIC FIELD IN PLASMA. SINCE THE RF RESONANCE ELECTRIC FIELD PENETRATES DEEP INTO THE PLASMA,IONS CAN BE CONTROLLED MORE EASILY THAN OTHERMETHODS. IT IS VERY ATTRACTIVE FOR MANY APPLICATIONS SUCH AS PLASMA CVD,PLASMA ETCHING IF THE BEHAVIOR OF ELECTRONS IS CLARIFIED AND THE RESONANCE CONDITIONS ARE EASILY MET.

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